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In-Situ Pre-Purge System
공정 대기에 의한 자연산화막 및 오염막 성장을 방지하는 장치
Ultra-Clean N2 Purge Gas Solution at the stand-by time during wafer processing. - 자연산화막 성장 방지로 공정간 Q-Time 연장- AMC 오염막 성장방지로 웨이퍼 표면 품질 유지